发明名称 |
SOG FILM FORMATION METHOD FOR SEMICONDUCTOR MATERIAL |
摘要 |
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申请公布号 |
KR100231725(B1) |
申请公布日期 |
1999.11.15 |
申请号 |
KR19960074945 |
申请日期 |
1996.12.28 |
申请人 |
HYUNDAI ELECTRONICS IND. CO.,LTD |
发明人 |
LEE, KI YUP;NAM, KI WON |
分类号 |
H01L21/306;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
H01L21/306 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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