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发明名称 METHOD OF FORMING SILICON OXIDE FILM OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR100231734(B1) 申请公布日期 1999.11.15
申请号 KR19960017134 申请日期 1996.05.21
申请人 HYUNDAI ELECTRONICS IND. CO.,LTD 发明人 LEE, JONG SOK;LEE, YONG CHOL;KIM, DONG HYON
分类号 H01L21/31;(IPC1-7):H01L21/31 主分类号 H01L21/31
代理机构 代理人
主权项
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