| 主权项 |
1.一种发光二极体定位挡块结构之改良,系包括一射出成型或液注固设于发光二极体两支脚间之横挡块体,其特征在于:其横挡块体形成时在其支脚抗拒插件力量之适位处设有局部胀大之阻隔,藉此,使横档块体可以短截设于支脚之任何位置以节省用料,并能承受自动插件之力量不致跑脱、移位者。2.如申请专利范围第1项所述之发光二极体定位挡块结构之改良,其中,支脚上之胀大阻隔系设于形成挡块之前后位置者。3.如申请专利范围第2项所述之发光二极体定位挡块结构之改良,其中,该胀大阻隔系由射出模具直接压合所形成者。4.如申请专利范围第3项所述之发光二极体定位挡块结构之改良,其中,该胀大阻隔系于块体所在支脚位置前后至少0.1mm处各压扁至少0.05mm所形成。5.一种发光二极体定位挡块结构之改良,系包括一射出成型或液注固设于发光二极体两支脚间之横挡块体,其特征在于:该横挡块体下延伸设有假脚,假脚之长度视电路板厚度而设,其脚之末端形成胀大之卡缘,插件时可固插于电路板上不易脱离者。6.如申请专利范围第1项所述之发光二极体定位挡块结构之改良,其中该横挡块体底下设有至少一延伸而设之假脚,该假脚之末端形成胀大之卡缘,其卡缘之前端呈锥导状,又电路板之插件位置则增设有相对之插孔者。图式简单说明:第一图:为本创作之平面外观图。第二图:为本创作另一实施例之平面外观图。第三图:为本创作横挡块体成型过程示意图。第四图:为本创作插件取得平稳状态示意图。第五图:为本创作过鍚焊后组成成品之示意图。第六图:为习式发光二极体成品横挡块体之应用例图。 |
