| 主权项 |
1.一种烹调装置,包含: (a)一个基体; (b)一个被安装在该基体上的支点; (c)用于承载一浅锅的支架装置; (d)该支架装置是被安装在该支点上且包含各自从 该支点的每一边延伸相当距离的第一部份和第二 部份; (e)用于将该浅锅安装在该支点一边上及该支架装 置的第一部份的装置;和 (f)用于周期地绕着该支点在第一位置和第二位置 之间快速地加速地及减速该第一部份,并可联合该 支点另一边上及该支架装置的第二部份一起实施 的致动装置,因此引起该浅锅随该第一部份上下移 动并且按照该第一部份的快速向上减速及向下加 速将被置于锅内的食物推入空气中,以及引起食物 遭翻转,使该食物不同之部份受到均匀加热。2.如 申请专利范围第1项之烹调装置,其中: (a)该第一部份大体上较该第二部份长,因此该第二 部份的小移动被放大成该第一部份中的大移动。3 .如申请专利范围第1项之烹调装置,其中: (a)该致动装置包含一个电磁圈。4.如申请专利范 围第1项之烹调装置,其中: (a)该第二部份包含一个无效运动凹槽。5.如申请 专利范围第4项之烹调装置,其中: (a)该致动装置包含一个可与该无效运动凹槽联合 实施的电磁圈。6.如申请专利范围第5项之烹调装 置,其中: (a)该电磁圈包含一个被配置在里面且可在第3部份 与第4部份之间移动的活塞和一支可与该活塞联合 实施的连杆; (b)该连杆可与该无效运动凹槽联合实施; (c)因此,当该活塞在该第三部份与第四部份之间移 动时,该连杆引起该第一部份在第一位置与第二位 置之间摆动。7.如申请专利范围第1项之烹调装置, 其中: (a)该致动装置包含一个具有一活塞的电磁圈;且 (b)用于润滑该活塞的装置。8.如申请专利范围第7 项之烹调装置,且更包含: (a)用于在操作期间中冷却该电磁圈的装置。9.如 申请专利范围第8项之烹调装置,其中: (a)该冷却装置包含一个被配置在该电磁圈周围的 液体护套;及 (b)用于使冷媒液循环该护套的装置。10.如申请专 利范围第8项之烹调装置,其中: (a)该润滑装置包含一个被配置在该活塞下方的浅 锅,且 (b)该浅锅包含一个与该活塞相通的小室。11.如申 请专利范围第10项之烹调装置,其中: (a)该循环装置包含一个入口通路和一个出口通路; (b)该入口通路可被连接到该护套之下部份; (c)该出口通路可被连接到该护套之上部份; (d)该出口通路包含一个被配置在该浅锅室内的卷 绕部份。12.如申请专利范围第1项之烹调装置,且 更包含: (a)一个被配置在该浅锅上方的喷嘴。13.如申请专 利范围第12项之烹调装置,其中: (a)该喷嘴包含一个内管件和一个外管件; (b)该内管件被配置在该外管件内部,用于在彼此间 定义一个环形通路;及 (c)该内管件包含多个入口和一个出口。14.如申请 专利范围第12项之烹调装置,其中: (a)该外导件包含一个位在其上端处的入口和一个 位在其下端处的环形开口;且 (b)该环形开口与环形通路相连。15.如申请专利范 围第14项之烹调装置,其中: (a)该内管件包含一个小室;且 (b)该内管件之出口有一个大体上较该小室还小的 开口。16.如申请专利范围第12项之烹调装置,且更 包含: (a)用于提供该浅锅热量的火炉装置。17.如申请专 利范围第16项之烹调装置,且更包含: (a)用于以预选之方式操作该电磁圈、该喷嘴、和 该火炉装置的装置。18.如申请专利范围第17项之 烹调装置,其中: (a)该操作装置包含多个电磁阀; (b)该等电磁阀中的每一个电磁阀是可与该多个入 口中的每一个入口和该火炉装置联合实施。19.如 申请专利范围第18项之烹调装置,其中: (a)该操作装置包含用于以一预选顺序操作每一个 电磁阀和该电磁圈的定时装置。20.一种烹调装置, 包含: (a)一个基体; (b)可与该基体联合实施,用于承载一浅锅的支架装 置。 (c)可与该支架装置联合实施,用于允许该支架装置 从水平线处在第一位置与第二位置之间上下摆动 的支轴装置; (d)可与该支架装置联合实施,用于周期性地绕着该 支轴在该第一位置和该第二位置之间快速地加速 及减速该支架装置的电磁圈驱动装置,因此引起该 浅锅随着该支架装置上下移动并按照该支架装置 之快速向上减速与向下加速将放在里面食物推入 空气中,并且引起该食物受到翻转,使该食物不同 之部份受到均匀加热;和 (e)用于以一预选之顺序自动地控制该电磁圈驱动 装置的装置。21.如申请专利范围第20项之烹调装 置,其中: (a)该控制装置包含可与该电磁圈驱动装置联合实 施而用于周期性地操作该电磁圈的定时装置。22. 如申请专利范围第21项之烹调装置,其中: (a)该定时装置包含一个可调式定时器。23.一种烹 调装置,包含: (a)一个基体; (b)可与该基体联合实施,用于承载一浅锅的支架装 置; (c)可与该支架装置联合实施,用于允许该支架装置 从水平线处在第一位置与第二位置之间上下摆动 的支轴装置;和 (d)可与该支架装置联合实施,用于周期性地绕着该 支轴在该第一位置和该第二位置之间快速地加速 及减速该支架装置的电磁圈驱动装置,因此引起该 浅锅随着该支架装置上下移动并按照该支架装置 之快速向上减速与向下加速将放在里面食物推入 空气中,并且引起该食物受到翻转,使该食物不同 之部份受到均匀加热。图式简单说明: 第一图是依据本发明之一种自动烹调装置的侧面 正视图,部份为图示的且有些部份以横截面显示。 第二图是用在本发明中之电磁圈的横截面图。 第三图是用在本发明中之喷嘴的横截面图。 第四图是用在本发明中之控制线路的功能方块图 。 第五图是显示该烹调装置之一种操作模式的示意 图。 |
