发明名称 |
Dissolution of metals utilizing an aqueous H2O2-H2SO4-thioamide etchant |
摘要 |
Improved metal dissolution rates are obtained when using a solution containing sulfuric acid, hydrogen peroxide and a catalytic amount of a thioamide having the general formula <IMAGE> wherein R is an aryl or a heterocyclic group.
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申请公布号 |
US4233113(A) |
申请公布日期 |
1980.11.11 |
申请号 |
US19790051761 |
申请日期 |
1979.06.25 |
申请人 |
DART INDUSTRIES INC. |
发明人 |
VALAYIL, SILVESTER P.;ELIAS, MOENES L. |
分类号 |
C23F1/16;H05K3/06;(IPC1-7):C09K13/06;C23F1/00;C23F3/02 |
主分类号 |
C23F1/16 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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