TRANSFER METHOD OF MASK-PATTERN ON PHOTO-RESIST LAYER,申请号JP19990089122-传众专利搜索

发明名称	TRANSFER METHOD OF MASK-PATTERN ON PHOTO-RESIST LAYER
摘要
申请公布号	JPH11312644(A)	申请公布日期	1999.11.09
申请号	JP19990089122	申请日期	1999.03.30
申请人	SIEMENS AG	发明人	GRASSMANN ANDREAS
分类号	H01L21/027;G03F7/20;(IPC1-7):H01L21/027	主分类号	H01L21/027
代理机构		代理人
主权项
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