| 发明名称 |
METHOD AND DEVICE FOR HIGH TEMPERATURE REFLOW SPUTTERING |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH11307479(A) |
申请公布日期 |
1999.11.05 |
| 申请号 |
JP19980115630 |
申请日期 |
1998.04.24 |
| 申请人 |
ANELVA CORP |
发明人 |
KOBAYASHI MASAHIKO;TAKAHASHI NOBUYUKI |
| 分类号 |
C23C14/34;C23C14/58;H01L21/203;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/3205;H01L23/52;(IPC1-7):H01L21/285;H01L21/320 |
主分类号 |
C23C14/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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