发明名称 Verfahren zur Erzeugung eines homogenen Abtragprofils auf einem rotierenden Target einer Sputtervorrichtung
摘要
申请公布号 DE4117367(C2) 申请公布日期 1999.11.04
申请号 DE19914117367 申请日期 1991.05.28
申请人 BALZERS UND LEYBOLD DEUTSCHLAND HOLDING AG 发明人 HARTIG, KLAUS;DIETRICH, ANTON;SZCZYRBOWSKI, JOACHIM
分类号 C23C14/34;H01J37/34;(IPC1-7):C23C14/35;H01L21/203 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
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