| 发明名称 |
POLYMERIC SILICONE COMPOUND, RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMATION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH11302382(A) |
申请公布日期 |
1999.11.02 |
| 申请号 |
JP19980227633 |
申请日期 |
1998.07.28 |
| 申请人 |
SHIN ETSU CHEM CO LTD |
发明人 |
NAKAJIMA MUTSUO;KANEKO ICHIRO;ISHIHARA TOSHINOBU;TSUCHIYA JUNJI;HATAKEYAMA JUN;NAGURA SHIGEHIRO |
| 分类号 |
G03F7/039;C08G77/04;G03F7/075;H01L21/027;(IPC1-7):C08G77/04 |
主分类号 |
G03F7/039 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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