| 主权项 |
1.一种平面CRT之阴影光罩,包括有一磷光体萤幕,其是形成在一面板之内侧表面上;一电子枪;一管颈部,其连接在该面板上,而且具有一该电子枪所位在的颈口,以能放射电子束;以及一偏转系统,用来瞄准自该磷光体萤幕上的电子枪所放射出来,并穿越过该连接在一支撑框架上的阴影光罩之后的电子束,其能引起在该面板之内侧上的磷光体萤幕放射光线;其中自电子枪所放射出来的电子束所穿越过的电子束孔洞是形成在一有效表面上,该有效表面是该光罩的中心,一框架在一定距离上是连接在该有效表面之边缘上,该框架所连接的部份之外侧是一电子束不会着陆在其上的第一级无效表面,并藉由将具有该光罩之孔洞的区域延伸至该框架连接位置上以形成一第二级无效表面。2.如申请专利范围第1项所述之阴影光罩,其中该等孔洞是形成在该第一级无效表面上除了该光罩的角落以外的所有区域上。3.如申请专利范围第1项所述之阴影光罩,其中所延伸出来的第二级无效表面是被一系杆坡度在内部或是外部地加以处理。4.如申请专利范围第2项所述之阴影光罩,其中在该第一级无效表面之具有孔洞的区域之角落上的系杆是均匀的,而且其外侧是被该系杆坡度加以处理。5.如申请专利范围第1项或是第2项之任一项中所述之阴影光罩,其中在该第一级或是第二级无效表面上具有孔洞之区域的角落是圆弧形的。6.如申请专利范围第1项或是第2项之任一项中所述之阴影光罩,其中在该第一级或是第二级无效表面上具有孔洞之区域是被该系杆坡度向上地或是向下地加以处理。7.如申请专利范围第2项所述之阴影光罩,其中在该第一级无效表面上具有孔洞之区域在径向方向上是被该系杆坡度加以处理。8.如申请专利范围第2项所述之阴影光罩,其中在该第一级无效表面上具有孔洞之区域是被该系杆坡度从径向方向的中心向外地加以处理。9.如申请专利范围第2项所述之阴影光罩,其中在该第一级无效表面上具有孔洞之区域是被该系杆坡度朝向该有效表面加以处理。10.如申请专利范围第2项所述之阴影光罩,其中该光罩的外侧是被在第一级无效表面上在具有孔洞之区域上的该系杆坡度加以处理。11.如申请专利范围第2项所述之阴影光罩,其中在该第一级无效表面上具有孔洞之区域是被该系杆坡度在内部或是在外部地加以处理。12.如申请专利范围第2项所述之阴影光罩,其中在该第一级无效表面上具有孔洞之区域的系杆坡度是减小的,然后从内到外逐渐地增加。13.如申请专利范围第2项所述之阴影光罩,其中在该第一级无效表面上具有孔洞之区域的系杆坡度是增加的,然后从内到外逐渐地减小。14.如申请专利范围第1项所述之阴影光罩,其中系是拉张标准的基准孔洞是形成在自该光罩之有效表面所延伸的该第二级无效表面上。15.一种平面CRT之阴影光罩,包括有一磷光体萤幕,其是形成在一面板之内侧表面上;一管颈部,该面板是连接在其上,而且其具有一颈口,该颈口是一用来放射电子束的电子枪所位在位置;以及一偏转系统,用来反射自该电子枪所放射出来的电子束,并且该电子束能穿越过该阴影光罩,其是连接在一支撑框架上,因此电子束能引起形成在该面板之内侧上的磷光体萤幕放射光线;其中自电子枪所放射出来的电子束所穿越过的电子束孔洞是形成在一有效表面上,该有效表面是该光罩的中心,一框架在一定距离上是连接在该有效表面之边缘上,该框架外侧的面积是一电子束不会着陆在其上的第一级无效表面,藉由将具有该光罩之孔洞的区域延伸至该框架上以形成一第二级无效表面,而且在该所延伸的第二级无效表面之角落上的电子束孔洞在径向方向上是被一系杆坡度加以处理。16.如申请专利范围第15项所述之阴影光罩,其中所延伸出来的第二级无效表面是被一系杆坡度在内部或是外部地加以处理。17.如申请专利范围第15项所述之阴影光罩,其中该等孔洞是形成在该第一级无效表面上除了角落之外的所有区域上。18.如申请专利范围第17项所述之阴影光罩,其中在该第一级无效表面之具有孔洞的区域之角落上的系杆是均匀的,而且其外侧是被该系杆坡度加以处理。19.如申请专利范围第15项或是第17项之任一项中所述之阴影光罩,其中在该第一级或是第二级无效表面上具有孔洞之区域的角落是圆弧形的。20.如申请专利范围第17项所述之阴影光罩,其中在该第一级无效表面上具有孔洞之区域在径向方向上是被该系杆坡度加以处理。21.如申请专利范围第17项所述之阴影光罩,其中在该第一级无效表面上具有孔洞之区域是被该系杆坡度从径向方向的中心向外地加以处理。22.如申请专利范围第17项所述之阴影光罩,其中该第一级无效表面之具有孔洞的区域是被该系杆坡度加以处理而朝向该有效表面。23.如申请专利范围第17项所述之阴影光罩,其中该光罩的外侧是被在第一级无效表面上在具有孔洞之区域上的该系杆坡度加以处理。24.如申请专利范围第17项所述之阴影光罩,其中在该第一级无效表面上具有孔洞之区域是被该系杆坡度在内部或是在外部地加以处理。25.如申请专利范围第15项所述之阴影光罩,其中该光罩中所延伸出来的第二级无效表面之角落是圆弧形的。26.如申请专利范围第15项所述之阴影光罩,其中系是拉张标准的基准孔洞是形成在自该光罩之有效表面所延伸的该第二级无效表面上。27.如申请专利范围第15项或是第17项之任一项中所述之阴影光罩,其中该第一级或是第二级无效表面是被该系杆坡度向上地或是向下地加以处理。28.如申请专利范围第17项所述之阴影光罩,其中在该第一级无效表面上具有孔洞之区域的系杆坡度是减小的,然后从内到外逐渐地增加。29.如申请专利范围第17项所述之阴影光罩,其中在该第一级无效表面上具有孔洞之区域的系杆坡度是增加的,然后从内到外逐渐地减小。30.一种平面CRT之阴影光罩,包括有一磷光体萤幕,其是形成在一面板之内侧表面上;一管颈部,该面板是连接在其上,而且其具有一颈口,该颈口是一用来放射电子束的电子枪所位在位置;以及一偏转系统,用来反射自该电子枪所放射出来的电子束,该电子束能穿越过连接在一支撑框架上的该阴影光罩,因此能引起放置在该面板之内侧上的磷光体萤幕放射光线;其中自电子枪所放射出来的电子束所穿越过的电子束孔洞是形成在一有效表面上,该有效表面是该光罩的中心,一框架在一定距离上是固定在该有效表面的边缘上,使得该框架固定面积的外侧是一电子束不会着陆在其上的第一级无效表面,一在其上该光罩的孔洞能够延伸的第二级无效表面是形成在该有效表面的边缘上,在该第一级与第二级无效表面之间没有孔洞存在的区域上形成有一个第一空白区域,在该第一级无效表面之外侧形成有一个第二空白区域,在该第一级无效表面之角落上形成有一个没有孔洞存在的第三空白区域。31.如申请专利范围第30项所述之阴影光罩,其中该等孔洞是形成在该第一级无效表面上除了该第三空白区域以外的所有区域上。32.如申请专利范围第30项或是31项之任一项中所述之阴影光罩,其中在该第一级或是第二级无效表面上具有孔洞的区域是被一系杆坡度加以处理而朝向该第一或是第二空白区域。33.如申请专利范围第31项所述之阴影光罩,其中在该第一级无效表面之具有孔洞的区域之角落上的系杆是均匀的,而且该第二空白区域是被该系杆坡度加以处理。34.如申请专利范围第30项或是第31项之任一项中所述之阴影光罩,其中在该第一级或是第二级无效表面上具有孔洞之区域的角落是圆弧形的。35.如申请专利范围第30项或是第31项之任一项中所述之阴影光罩,其中在该第一级或是第二级无效表面上具有孔洞之区域是被该系杆坡度向上地或是向下地加以处理。36.如申请专利范围第31项所述之阴影光罩,其中在该第一级无效表面上具有孔洞之区域在径向方向上是被该系杆坡度加以处理。37.如申请专利范围第31项所述之阴影光罩,其中在该第一级无效表面上具有孔洞之区域是被该系杆坡度从径向方向的中心向外地加以处理。38.如申请专利范围第31项所述之阴影光罩,其中该第一空白区域是被在第一级无效表面上在具有孔洞之区域上的该系杆坡度加以处理。39.如申请专利范围第31项所述之阴影光罩,其中在该第一级无效表面之具有孔洞的区域上,该第一空白区域是被该系杆坡度加以处理。40.如申请专利范围第31项所述之阴影光罩,其中该第一级无效表面之具有孔洞的区域是被该系杆坡度加以处理而朝向该第一或是第二空白区域。41.如申请专利范围第31项所述之阴影光罩,其中该第一级无效表面之具有孔洞的区域之系杆坡度是减小的,然后从该第一空白区域到该第二空白区域逐渐地增加。42.如申请专利范围第31项所述之阴影光罩,其中该第一级无效表面之具有孔洞的区域之系杆坡度是增加的,然后从该第一空白区域到该第二空白区域逐渐地减小。43.如申请专利范围第30项所述之阴影光罩,其中系是拉张标准的基准孔洞是形成在该第二级无效表面上。44.一种平面CRT之阴影光罩,包括有一磷光体萤幕,其是形成在一面板之内侧表面上;一管颈部,其具有该面板与一颈口,一电子枪配置在该颈口上,用来放射电子束;以及一偏转系统,用来反射自该电子枪所放射出来的电子束,并且该电子束能穿越过连接在一支撑框架上的该阴影光罩,因此能引起形成在该面板之内侧上的磷光体萤幕放射光线;其中电子束所穿越过的电子束孔洞是形成在一有效表面上,该有效表面是该光罩的中心,一框架在一定距离上是固定在该有效表面的边缘上,该框架的外侧是一电子束不会着陆在其上的第一级无效表面,在与该有效表面相邻的区域上形成有一个第一空白区域,在该无效表面之外侧上形成有一个没有孔洞存在的第二空白区域,在该第一与第二空白区域之间的角落上形成有一个没有孔洞存在的第三空白区域。45.如申请专利范围第44项所述之阴影光罩,其中该等孔洞是形成在该无效表面上除了该第三空白区域以外的区域上。46.如申请专利范围第44项所述之阴影光罩,其中该无效表面是被一系杆坡度加以处理而朝向该第一或是第二空白区域。47.如申请专利范围第45项所述之阴影光罩,其中该无效表面之具有孔洞的区域之角落的系杆是均匀的,而且该第二空白区域是被该系杆坡度加以处理。48.如申请专利范围第45项所述之阴影光罩,其中该无效表面之具有孔洞的区域之角落是圆弧形的。49.如申请专利范围第45项所述之阴影光罩,其中该第无效表面是被该系杆坡度加以处理而朝向该第一或是第二空白区域。50.如申请专利范围第45项所述之阴影光罩,其中该无效表面之具有孔洞的区域在径向方向上是被该系杆坡度加以处理。51.如申请专利范围第45项所述之阴影光罩,其中在该无效表面之具有孔洞的区域上,该第一空白区域是被该系杆坡度加以处理。52.如申请专利范围第45项所述之阴影光罩,其中在该无效表面之具有孔洞的区域上,该第二空白区域是被该系杆坡度加以处理。53.如申请专利范围第45项所述之阴影光罩,其中该第无效表面之具有孔洞的区域之系杆坡度是减小的,然后从内到外逐渐地增加。54.如申请专利范围第45项所述之阴影光罩,其中该第无效表面之具有孔洞的区域之系杆坡度是增加的,然后从内到外逐渐地减小。55.如申请专利范围第44项所述之阴影光罩,其中系是拉张标准的基准孔洞是形成在该有效表面与该框架固定部份之间上。图式简单说明:第一图是平面CRT的剖视图。第二图是平面CRT之面板部份的分解立体图。第三图系显示习用的平面箔伸张光罩之结构。第四图与第五图系显示习用的伸张光罩之结构,其中电子束孔洞是形成在无效表面上。第六图系显示本发明之伸张光罩的结构与细部。第七图系显示根据本发明之另一较佳实施例的伸张光罩之结构与细部。第八图系显示本发明之有效表面所延伸的区域之一角落的结构。第九图系显示本发明之无效表面的系杆坡度之状态。第十图系显示本发明之无效表面的系杆坡度之较佳实施例。第十一图系显示本发明之另一较佳实施例。 |
