| 主权项 |
1.一种液晶纯化方法,包括下列步骤1至4:步骤1:制造反铁电液晶或铁电液晶之液晶溶液,以备在芳族烃溶剂内纯化;步骤2:令液晶溶液与选自包含沸石、氧化铝和氧化矽凝胶等至少一种吸附剂接触,从吸附剂分离液晶溶液;步骤3:精密过滤所得液晶溶液;和步骤4:从所得滤液除去溶剂、并回收纯化液晶者。2.如申请专利范围第1项之方法,其中吸附剂为沸石者。3.如申请专利范围第1项之方法,其中吸附剂为质子型沸石者。4.如申请专利范围第1项之方法,其中吸附剂为管柱型沸石,直径1-2mm,长度0.5-1.5mm者。5.如申请专利范围第1项之方法,其中芳族烃溶剂为苯、甲苯或二甲苯者。6.如申请专利范围第1项之方法,其中芳族烃溶剂为甲苯者。7.如申请专利范围第1项之方法,其中步骤3的精密过滤系使用具有胞孔直径0.1至0.3m的微胞孔之滤材者。8.如申请专利范围第1项之方法,其中步骤1的液晶溶液经纯水洗净处理至少一次,再加料至步骤2者。9.如申请专利范围第8项之方法,其中纯水之比电阻値至少1107cm者。10.如申请专利范围第8项之方法,其中每次洗净处理时,每份重量液晶,使用纯水量10至50份重量者。11.如申请专利范围第8项之方法,其中洗净处理是在温度10至30℃进行者。12.如申请专利范围第8项之方法,其中洗净处理总共进行时间至少15分钟者。13.如申请专利范围第1项之方法,其中制成之液晶,比电阻値至少51012cm,而热解比率为0.3%重量或以下者。图式简单说明:第一图简略表示电路,说明比电阻値之测量。 |
