细镍粉之制法

摘要

本文揭示一种细镍粉之制法，包括将包括以水溶液中所存在之氢氧化钠总重量为准，75至85重量%之如JIS K1203中之规格之苛性苏打液体及总量为25至15重量%之至少一种如JIS K 8576中之规格之氢氧化钠与如JIS K1202中之规格之苛性苏打固体之氢氧化钠水溶液，与硫酸镍水溶液混合，以形成氢氧化镍，然后以联胺还原所得之氢氧化镍，及回收所制得之细镍粉之步骤。藉由该方法所制得之细镍粉之初级颗粒平均粒度为0.1至0.9μ m之范围，Ｄ90值为不大于2.1μm，及振实密度（tap density）为不小于3.5g/cc。细镍粉具有低聚集度、狭窄之粒度分布，及高振实密度，因此，该粉末相当适合作为制造层压陶磁电容器用之内电极材料。

主权项

1.一种制备细镍粉之方法,包括将包括以水溶液中存在之氢氧化钠总重量为准,75至85重量%之如JIS K1203中之规格之苛性苏打液体及总量为25至15重量%之至少一种如JIS K 8576中之规格之氢氧化钠与如JISK 1202中之规格之苛性苏打固体之氢氧化钠水溶液,与硫酸镍水溶液混合,以形成氢氧化镍,然后以联胺还原所得之氢氧化镍,及回收所制得之镍之步骤。2.如申请专利范围第1项之方法,其中该氢氧化钠水溶液包括以水溶液中存在之氢氧化钠总重量为准,75至85重量%之如JISK 1203中之规格之苛性苏打液体及25至15重量%之如JIS K 8576中之规格之氢氧化钠。3.如申请专利范围第1项之方法,其中该氢氧化钠水溶液包括以水溶液中存在之氢氧化钠总重量为准,75至85重量%之如JIS K 1203中之规格之苛性苏打液体及25至15重量%之如JIS K 1202中之规格之苛性苏打固体。4.如申请专利范围第1项之方法,其中该氢氧化钠水溶液包括以水溶液中存在之氢氧化钠总重量为准,75至85重量%之如JIS K 1203中之规格之苛性苏打液体及总量为25至15重量%之如JIS K 8576中之规格之氢氧化钠与如JIS K 1202中之规格之苛性苏打固体。5.如申请专利范围第1项之方法,其中氢氧化钠水溶液对硫酸镍水溶液之混合比之范围,以化学当量比(氢氧化钠:硫酸镍)表示时,为1.66至1.84:1。6.如申请专利范围第1项之方法,其中,当将氢氧化钠水溶液与硫酸镍水溶液混合时,系将一者逐渐添加至另一者。7.如申请专利范围第5项之方法,其中,当将氢氧化钠水溶液与硫酸镍水溶液混合时,系将一者逐渐添加至另一者。8.如申请专利范围第1项之方法,其中在还原步骤中氢氧化镍对联胺之混合比之范围,以化学当量比(氢氧化镍:联胺)表示时,为1:9.5至10.5。9.如申请专利范围第5项之方法,其中在还原步骤中氢氧化镍对联胺之混合比之范围,以化学当量比(氢氧化镍:联胺)表示时,为1:9.5至10.5。10.如申请专利范围第7项之方法,其中在还原步骤中氢氧化镍对联胺之混合比之范围,以化学当量比(氢氧化镍:联胺)表示时,为1:9.5至10.5。11.如申请专利范围第1项之方法,其中该方法制造初级颗粒之平均粒度在0.1至0.9m之范围且具有不大于2.1m之D90値及不小于3.5g/cc之振实密度之细镍粉。12.如申请专利范围第10项之方法,其中该方法制造初级颗粒之平均粒度在0.1至0.9m之范围且具有不大于2.1m之D90値及不小于3.5g/cc之振实密度之细镍粉。图式简单说明:第一图为显示实例2所制得之细镍粉之显微照片(SEM);及第二图为显示比较例5所制得之细镍粉之显微照片(SEM)。