STATIONARY MAGNETRON SPUTTERING CATHODE FOR A VACUUM COATING APPARATUS,申请号KR19910018137-传众专利搜索

发明名称	STATIONARY MAGNETRON SPUTTERING CATHODE FOR A VACUUM COATING APPARATUS
摘要
申请公布号	KR100229008(B1)	申请公布日期	1999.11.01
申请号	KR19910018137	申请日期	1991.10.15
申请人	BALZERS UND LEYBOLD DEUTSCHLAND HOLDING AG.	发明人	WOLFRAM, MAASS;ULRICH, PATZ
分类号	C23C14/35;(IPC1-7):C23C14/35	主分类号	C23C14/35
代理机构		代理人
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