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发明名称 HIGH DENSITY PLASMA ETCHING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR100228374(B1) 申请公布日期 1999.11.01
申请号 KR19960064459 申请日期 1996.12.11
申请人 HYUNDAI ELECTRONICS IND. CO.,LTD 发明人 KIM, SUNG-KI;NA, WON-KYU;OH, SANG-RYONG;CHANG, JE-WOOK
分类号 H01L21/306;(IPC1-7):H01L21/306 主分类号 H01L21/306
代理机构 代理人
主权项
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