| 发明名称 |
PLASMA PROCESSOR AND CLEANING METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH11297673(A) |
申请公布日期 |
1999.10.29 |
| 申请号 |
JP19980104341 |
申请日期 |
1998.04.15 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
SETOYAMA HIDETSUGU;ISHIGURO KOJI;MURAKAMI HAJIME;SEKI HIROBUMI |
| 分类号 |
C23C14/00;B08B7/00;C23C16/40;C23C16/44;C23C16/50;C23C16/511;C23C16/517;C23F4/00;H01J27/16;H01J37/08;H01J37/317;H01J37/32;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/304;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
C23C14/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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