发明名称 Semiconductor Device Manufacturing Apparatus and Semiconductor Device Manufacturing Method
摘要 <p>열적CVD반응을 이용하여 기판 상에 막을 퇴적하는 반도체장치의 제조장치는, 기판 또는 기판 상에 퇴적된 막에 접촉하는 전극단자를 갖는 링, 이 링의 전극단자에 전류 또는 전위를 인가하는 전원공급기, 그리고, 이 링의 전극단자가 기판 또는 기판 상에 퇴적된 막에 접촉되는 것을 막기 위해 링을 상하로 이동시키는 피스톤실린더메커니즘을 구비한다.</p>
申请公布号 KR19990078215(A) 申请公布日期 1999.10.25
申请号 KR19990010060 申请日期 1999.03.24
申请人 null, null 发明人 우에노가즈요시
分类号 H01L21/31;C23C16/18;C23C16/44;C23C16/458;C23C16/50;C23C16/52;H01L21/205;H01L21/285 主分类号 H01L21/31
代理机构 代理人
主权项
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