Verfahren und Einrichtung zur Abscheidung von Funktionsschichten auf einem Substrat mittels plasmagestützter Schichtabscheidung,申请号DE19951045050-传众专利搜索

发明名称	Verfahren und Einrichtung zur Abscheidung von Funktionsschichten auf einem Substrat mittels plasmagestützter Schichtabscheidung
摘要
申请公布号	DE19545050(C2)	申请公布日期	1999.10.21
申请号	DE19951045050	申请日期	1995.12.02
申请人	INOVAP VAKUUM- UND PLASMATECHNIK GMBH DRESDEN;VOLLSTAEDT-DIAMANT GMBH;FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FOERDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.	发明人	GRIMM, WERNER;VOLLSTAEDT, HEINER;SCHEIBE, HANS JOACHIM
分类号	C23C16/02;C23C16/27;(IPC1-7):C23C16/50;C23C16/26;C23C14/24;C23C14/14;H01J37/32	主分类号	C23C16/02
代理机构		代理人
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