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发明名称 APERTURE AND DRAWING METHOD FOR ELECTRON-BEAM DRAWING APPARATUS USING THE APERTURE, AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 JPH11288864(A) 申请公布日期 1999.10.19
申请号 JP19980088993 申请日期 1998.04.01
申请人 HITACHI LTD 发明人 SATO KAZUHIKO
分类号 G03F7/20;H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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