| 发明名称 |
PHOTOSENSITIVE AND THERMOSETTING RESIN COMPOSITION, AND FORMATION OF RESIN INSULATING PATTERN USING THE SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH11286535(A) |
申请公布日期 |
1999.10.19 |
| 申请号 |
JP19980212020 |
申请日期 |
1998.07.13 |
| 申请人 |
TAIYO INK MFG LTD |
发明人 |
TONI MIYAKO;SASAKI MASAKI;SAITO TERUO |
| 分类号 |
G03F7/004;C08G59/40;C08K5/00;C08L33/02;C08L61/14;C08L63/00;C08L101/06;G03F7/032;G03F7/033;G03F7/039;H05K3/28;(IPC1-7):C08G59/40 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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