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发明名称 METHOD FOR FORMING INSULATION FILM AND MANUFACTURE OF P-TYPE SEMICONDUCTOR ELEMENT
摘要
申请公布号 JPH11288933(A) 申请公布日期 1999.10.19
申请号 JP19980057592 申请日期 1998.03.10
申请人 SONY CORP 发明人 KATAOKA TOYOTAKA
分类号 H01L29/78;H01L21/318;(IPC1-7):H01L21/318 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人
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