| 发明名称 |
SPUTTERING METHOD, FORMATION OF WIRING, AND SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH11286773(A) |
申请公布日期 |
1999.10.19 |
| 申请号 |
JP19980105889 |
申请日期 |
1998.04.01 |
| 申请人 |
YAMAHA CORP;VACUUM METALLURGICAL CO LTD |
发明人 |
HIBINO SATOSHI;MAENOZONO MASANORI;NAKAHATA MOTOMU |
| 分类号 |
C23C14/08;C23C14/34;H01L21/203;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/3205;(IPC1-7):C23C14/08;H01L21/320 |
主分类号 |
C23C14/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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