发明名称 具高纵横比例之微模制品和微结构的制造方法
摘要 一种以源自X-射线光源之高能量平行照射依图像照射聚合物以制造具高纵横比为10:1至1000:1之微模制品之方法,其中所用之聚合物为均-或共聚氧化甲烯,该聚氧化甲烯之(数目平均)分子量Mn为2,000至100,000,且为甲醛之均聚物或甲醛与具环状或直链缩甲醛之三烷或环氧化物之共聚物,此均聚物或共聚物带有热稳定之端基,该均-或共聚氧化甲烯系藉射出成型,挤压及/或压合,施加于基材上成为厚达2000μm之层厚度,该平行照射光系波长为0.1至10微米之同步加速照射光。
申请公布号 TW241343 申请公布日期 1995.02.21
申请号 TW081101384 申请日期 1992.02.25
申请人 巴地斯颜料化工厂 发明人 彼得.荷塞尔;格哈德.赫夫曼;乔根.林登;汤玛斯.伍恩斯克
分类号 G03F7/26;G03F7/39 主分类号 G03F7/26
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种以源自X-射线光源之高能量平行照射光依图 像照射 聚合物以制造具高纵横比为10:1至1000:1之微模制品 之方 法,其中所用之聚合物为均-或共聚氧化甲烯,该聚 氧化 甲烯之(数目平均)分子量Mn为2,000至100,000,且为甲 醛 之均聚物或甲醛与具环状或直链缩甲醛之三 烷或 环氧化 物之共聚物,此均聚物或共聚物带有热稳定之端基 ,该均 -或共聚氧化甲烯系藉射出成型,挤压及/或压合,施 加 于基材上成为厚达2000m之层厚度,该平行照射光 系波 长为0.1至10微米之同步加速照射光。2.一种制造微 结构之方法,此方法包括使用同步加速照射 光依图影照射均-或共聚氧化甲烯,于显影温度为50 至 150℃之间,以选择性显影剂处理经照射之聚合物, 藉此 将该聚合物构建成深度为50m至2000m,而横向尺 寸为 低于10m,其中所用之选择性显影剂为酚或水性盐 酸或
地址 德国