发明名称 RÖNTGENSTRAHLMASKENSTRUKTUR UND - BELICHTUNGSVERFAHREN SOWIE DAMIT HERGESTELLTES HALBLEITERBAUELEMENT UND HERSTELLUNGSVERFAHREN FÜR DIE RÖNTGENSTRAHLMASKENSTRUKTUR
摘要 An X-ray mask structure comprises an X-ray absorber having a desired pattern, an X-ray permeable film supporting the X-ray absorber, and a supporting frame for supporting the X-ray permeable film. The X-ray mask structure has a metal oxide film formed on the portion of the X-ray permeable film having no X-ray absorber thereon. <IMAGE> <IMAGE>
申请公布号 AT184711(T) 申请公布日期 1999.10.15
申请号 AT19920119367T 申请日期 1992.11.12
申请人 CANON KABUSHIKI KAISHA 发明人 CHIBA, KEIKO
分类号 G03F1/14;G03F1/22;(IPC1-7):G03F1/14 主分类号 G03F1/14
代理机构 代理人
主权项
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