| 发明名称 |
METHOD FOR FORMING PATTERN OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING CAPACITOR USING THE SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR100224730(B1) |
申请公布日期 |
1999.10.15 |
| 申请号 |
KR19960066946 |
申请日期 |
1996.12.17 |
| 申请人 |
SAMSUNG ELECTRONICS CO, LTD. |
发明人 |
YU, WON-CHONG |
| 分类号 |
H01L21/027;H01L21/02;H01L21/033;H01L21/3213;H01L27/108;(IPC1-7):H01L21/60 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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