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发明名称
FABRICATING METHOD OF SILICON-ON-INSULATOR WAFER
摘要
申请公布号
KR100224674(B1)
申请公布日期
1999.10.15
申请号
KR19960065526
申请日期
1996.12.13
申请人
SAMSUNG ELECTRONICS CO, LTD.
发明人
LEE, BYUNG-HOON
分类号
H01L21/20;(IPC1-7):H01L21/20
主分类号
H01L21/20
代理机构
代理人
主权项
地址
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