| 发明名称 |
PROCESS FOR FORMING FIELD OXIDE OF SEMICONDUCTOR DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR100224780(B1) |
申请公布日期 |
1999.10.15 |
| 申请号 |
KR19960080220 |
申请日期 |
1996.12.31 |
| 申请人 |
HYUNDAI ELECTRONICS IND. CO.,LTD |
发明人 |
CHANG, SEI-UHK |
| 分类号 |
H01L21/316;H01L21/306;H01L21/76;H01L21/762;(IPC1-7):H01L21/324 |
主分类号 |
H01L21/316 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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