| 摘要 |
<p>Bei einem Verfahren zur Deposition von Partikeln, die räumlich unregelmäßig in einem Plasma eines Träger- oder Reaktionsgases verteilt sind, werden die Partikel ortsselektiv mindestens teilweise einer Plasmabehandlung unterzogen und/oder auf einer Substratoberfläche aufgetragen. Eine Vorrichtung zur Manipulierung von Partikeln umfaßt ein Reaktionsgefäß, in dem Plasmaelektroden und mindestens ein Substrat angeordnet sind. Die gezielte Einwirkung energiereicher Bestrahlung wird insbesondere zur gezielten Deposition der Partikel eingesetzt. Es wird eine adaptive Elektrode zur ortsselektiven Ausbildung eines niederfrequenten oder statischen elektrischen Feldes im Reaktionsgefäß beschrieben.</p> |
