高－ε－介电层或铁电层的制造方法

摘要

本方法是一种多道工序的方法。其中,第一道工序是:在低温下溅射层件;在第二道工序中,在惰性气体气氛中,于中温或者高温下进行RTP工序;在第三道工序中,在含氧气氛中,在低温或中温下,对层件进行退火处理。温度负荷明显小于普通的方法。采用这种方法制造集成储存器件时,可以防止敷设在下方的阻挡层氧化。

主权项

1．在一载体(1至9)上制造高-ε-介电层或铁电层的方法，具有下列工序：1)在低于500℃的低的T1温度下溅射层件(10)，2)在一种惰性气体中，在500-900℃的温度范围内的T2温度下进行一道RTP工序，3)在一种含氧气氛中，在200-600℃的温度范围内的T3温度下，对层件(10)进行退火。