发明名称 |
Semiconductor device and method for fabricating a diffusion barrier metal layertherein |
摘要 |
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申请公布号 |
GB2300970(B) |
申请公布日期 |
1999.10.13 |
申请号 |
GB19960010393 |
申请日期 |
1996.05.17 |
申请人 |
* HYUNDAI ELECTRONICS INDUSTRIES CO LTD |
发明人 |
KYEONG KEUN * CHOI |
分类号 |
H01L21/28;H01L21/285;H01L21/31;H01L21/316;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/285 |
主分类号 |
H01L21/28 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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