| 发明名称 |
MONOMER AND PREPARATION THEREOF, COPOLYMER RESIN AND PREPARATION THEREOF, PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE COPOLYMER RESIN AND PREPARATION THEREOF AND SEMICONDUCTOR ELEMENT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH11269228(A) |
申请公布日期 |
1999.10.05 |
| 申请号 |
JP19980367517 |
申请日期 |
1998.12.24 |
| 申请人 |
HYUNDAI ELECTRONICS IND CO LTD |
发明人 |
JUNG MIN HO;JUNG JAE CHANG;BOK CHEOL KYU;BAIK KI HO |
| 分类号 |
G03F7/033;C07C67/14;C07C69/013;C07C69/54;C07C69/757;C07D309/12;C08F20/04;C08F20/26;G03F7/004;G03F7/039;(IPC1-7):C08F20/26 |
主分类号 |
G03F7/033 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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