发明名称 DISPOSITIF COMPRENANT UN TRANSISTOR MOS ET PROCEDE DE DEVELOPPEMENT D'UN TEL DISPOSITIF SUR UN SUBSTRAT SOI
摘要 <P>L'invention procure un dispositif à semiconducteur comprenant un transistor MOS ayant une structure SOI, dont la vitesse de fonctionnement est stable. Le transistor comprend des régions de source et de drain (11, 12) formées dans une couche SOI, une région de corps qui est une région de la couche SOI s'étendant entre les régions de source et de drain, et une électrode de grille (6) formée sur la région de corps. Le transistor est conçu de façon à vérifier la relation R C. f < 1, dans laquelle C désigne une capacité de grille (F), R désigne une résistance de corps (OMEGA) f désigne une fréquence de fonctionnement (Hz) et f >= 500 MHz.</P>
申请公布号 FR2776831(A1) 申请公布日期 1999.10.01
申请号 FR19980014637 申请日期 1998.11.20
申请人 MITSUBISHI DENKI KABUSHIKI KAISHA 发明人 MAEDA SHIGENOBU;YAMAGUCHI YASUO
分类号 H01L21/762;G06F17/50;H01L21/336;H01L21/765;H01L27/02;H01L27/12;H01L29/423;H01L29/786 主分类号 H01L21/762
代理机构 代理人
主权项
地址