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发明名称 Fokussierungsverfahren in der Photolithographie
摘要
申请公布号 DE19521390(C2) 申请公布日期 1999.09.30
申请号 DE19951021390 申请日期 1995.06.13
申请人 MITSUBISHI DENKI K.K., TOKIO/TOKYO 发明人 ISHIKAWA, EIICHI;ARIMOTO, ICHIRO;KANBE, JUNICHI
分类号 G03F7/207;G03F9/00;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/207;G03F7/22 主分类号 G03F7/207
代理机构 代理人
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