半导体器件制造设备和半导体器件制造方法

摘要

一种利用热CVD反应在一个基片上淀积一层薄膜的半导体器件制造设备,其包括一个具有一个与基片或沉积于其上的薄膜相接触的电极端子的圆环,一个向该圆环的此电极端子加载电流或电势的电源,及一个用于上下移动该圆环以使其电极端子与该基片或淀积于其上的薄膜保持或中断接触的活塞缸机构。

主权项

1.一种利用热CVD反应在基片上淀积薄膜的半导体器件制造设备，其特征在于所述设备具有一个向所述基片或淀积于其上的所述薄膜提供电流的电源装置。