发明名称 | 垂直型金属绝缘体半导体场效应晶体管及其制造方法 | ||
摘要 | 具有沟槽结构的垂直型MISFET提高了抗压力特性而没有增加其导通电阻。在垂直型MISFET中,p型基区形成得比沟槽深,直接在沟槽下面形成n型半导体区。该区与n型外延层相邻并且杂质浓度比n型半导体衬底的高。 | ||
申请公布号 | CN1230029A | 申请公布日期 | 1999.09.29 |
申请号 | CN99103018.4 | 申请日期 | 1999.02.23 |
申请人 | 日本电气株式会社 | 发明人 | 山田学 |
分类号 | H01L29/78;H01L21/336 | 主分类号 | H01L29/78 |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 刘晓峰 |
主权项 | 1、一种垂直型MISFET,具有以下结构:第二导电型基区形成在形成漏区的第一导电型半导体衬底中,栅极通过栅绝缘膜形成在在所述基区中形成的沟槽中,第一导电型源区形成在围绕所述沟槽的所述基区中,其特征在于:所述基区形成得比所述沟槽深;和直接在所述沟槽下面形成第一导电型半导体区,其杂质浓度比所述第一导电型半导体衬底高。 | ||
地址 | 日本东京都 |