发明名称 垂直型金属绝缘体半导体场效应晶体管及其制造方法
摘要 具有沟槽结构的垂直型MISFET提高了抗压力特性而没有增加其导通电阻。在垂直型MISFET中,p型基区形成得比沟槽深,直接在沟槽下面形成n型半导体区。该区与n型外延层相邻并且杂质浓度比n型半导体衬底的高。
申请公布号 CN1230029A 申请公布日期 1999.09.29
申请号 CN99103018.4 申请日期 1999.02.23
申请人 日本电气株式会社 发明人 山田学
分类号 H01L29/78;H01L21/336 主分类号 H01L29/78
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 刘晓峰
主权项 1、一种垂直型MISFET,具有以下结构:第二导电型基区形成在形成漏区的第一导电型半导体衬底中,栅极通过栅绝缘膜形成在在所述基区中形成的沟槽中,第一导电型源区形成在围绕所述沟槽的所述基区中,其特征在于:所述基区形成得比所述沟槽深;和直接在所述沟槽下面形成第一导电型半导体区,其杂质浓度比所述第一导电型半导体衬底高。
地址 日本东京都
您可能感兴趣的专利