发明名称 半导体装置及其制造方法
摘要 本发明提供一种薄型且小型的半导体装置。先准备矽晶圆,在矽晶圆的主面及背面形成氧化膜,在矽晶圆的主面选择性形成绝缘膜并形成复数个通孔,在通孔底的上述氧化膜上形成金属积层膜,同时,在此金属积层膜上形成第1金属膜及第2金属膜,藉此形成金属台座。然后,在金属台座中的一个金属台座的主面,经由一方的电极固定形成有二极体的半导体晶片,以导电性的导线连接另一方的电极与其他金属台座。接着,以绝缘性树脂层覆盖半导体晶片或导线等,留下接合在密封体背面的氧化膜,去除矽晶圆或氧化膜,藉由蚀刻去除树脂层背面的氧化膜,在露出于树脂层背面的金属台座表面形成金属电镀膜,纵横切断上述树脂层,形成半导体装置。
申请公布号 TW200408096 申请公布日期 2004.05.16
申请号 TW092113235 申请日期 2003.05.15
申请人 日立制作所股份有限公司 发明人 山田耕平;一濑八州治;永濑弘幸
分类号 H01L23/48 主分类号 H01L23/48
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本