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Patente de Invenção: <B>"MATERIAL PLANO TêXTIL PARA FINS DE LIMPEZA"<D>. Material plano têstil para fins de limpeza que apresenta um não-tecido (10) e estruturações (4, 5) em relevo acima do não-tecido (1), sendo ue as estruturações (4, 5) existem em ambos os lados (2, 3) do material plano, sendo que as estruturações (4, 5) existem como áreas totais ou parciais e sendo que o o não-tecido base (1) apresenta em ambos os lados estruturações (4, 5) produzidas por agulhamento estrutural. No caso, podem ser mantidas distâncias entre as estruturações (4, 5) que correspondem pelo menos à extensão do estruturaçãp existente no lado oposto ou o não-tecido pode apresentar pelo menos duas camadas ligadas uma à outra (6, 7) de um não-tecido dotado unilateralmente de estruturações (8). |
