| 发明名称 | 用于化学机械研磨的无缝研磨装置和生成研磨垫的方法 | ||
| 摘要 | 在本发明的一个实施例中，提供了一种用于化学机械研磨的无缝研磨装置。该无缝研磨装置包括研磨垫，该研磨垫的形状类似带，且没有接缝。该无缝研磨装置还包括基带，该基带包括增强层和缓冲层。该缓冲层是在研磨带垫和基带之间的中间层。 | ||
| 申请公布号 | CN1209229C | 申请公布日期 | 2005.07.06 |
| 申请号 | CN01821518.1 | 申请日期 | 2001.12.07 |
| 申请人 | 拉姆研究公司 | 发明人 | 许苍山;赵岳星;戴芬 |
| 分类号 | B24B37/04;B24D11/00;B24D18/00 | 主分类号 | B24B37/04 |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 党晓林 |
| 主权项 | 1.一种用于化学机械研磨的无缝研磨装置，包括：研磨垫(156)，该研磨垫的形状为带状，且构造成没有接缝；以及基带(157)，该基带包括增强层(182)和缓冲层(184)；其中，该缓冲层是在研磨带垫和增强层之间的中间层。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||