PHOTORESIST COMPOSITIONS AND METHODS AND ARTICLES OF MANUFACTURE COMPRISING SAME

摘要

본 발명은 강한 발광 산을 생성하는 양성의 화학 증폭 포토레지스트 조성물을 사용하는 방법을 포함한다. 이 레지스트를 엄격한 소성 단계를 거친 금속 기판, 예를 들면 기판을 약 140℃ 이상으로 60 초 이상 가열 처리한 금속 기판 상에 코팅한다. 강한 발광산과 엄격한 사전 코팅 기판 소성 처리 과정을 결합시키므로써 해상도가 매우 높은 레지스트 릴리이프 이미지를 금속 기판 상에 제공한다.