| 主权项 |
1.一种包含二氧化矽和蜡之消光剂组成物,其中该 组成物的中间粒径介于2-12微米的范围之内,蜡含 量为组成物总重量的15-30%之间,且二氧化矽的孔隙 体积介于0.8到1.4立方公分/克的范围内。 2.如申请专利范围第1项之消光剂组成物,其中蜡含 量为18-22重量%。 3.如申请专利范围第1项之消光剂组成物,其中蜡的 熔点介于60-120℃之间。 4.如申请专利范围第1项之消光剂组成物,其中蜡的 熔点介于60-90℃之间。 5.如申请专利范围第3项之消光剂组成物,其中蜡为 石蜡且熔点介于60-90℃之间。 6.如申请专利范围第1项之消光剂组成物,其中组成 物的中间粒径为2到5微米之间。 7.如申请专利范围第2项之消光剂组成物,其中组成 物的中间粒径为2到5微米之间。 8.如申请专利范围第1项之消光剂组成物,其中二氧 化矽的孔隙体积介于0.9到1.2cc/g之间。 9.如申请专利范围第2项之消光剂组成物,其中二氧 化矽的孔隙体积介于约0.9到1.2cc/g之间。 10.如申请专利范围第7项之消光剂组成物,其中二 氧化矽的孔隙体积介于0.9到1.2cc/g之间。 11.一种涂料组成物,包括88至99.5重量%的可藉暴露 于紫外线辐射或电子束辐射下而硬化之辐射硬化 成份及0.5至12重量%的如申请专利范围第1-10项中任 一项之消光剂组成份。 12.如申请专利范围第11项之涂料组成物,其中辐射 硬化成份包含丙烯酸酯。 13.如申请专利范围第11项之涂料组成物,其尚包括 一种硬化启始剂。 14.如申请专利范围第11项之涂料组成物,其中辐射 硬化成份包含丙烯酸酯,且此涂料组成物含有2重 量%或更少之消光剂组成份。 15.一种经涂覆的基板,其包括一基板和一在其上的 由申请专利范围第11-14项中任一项之组成物所制 成之涂层。 16.如申请专利范围第15项之经涂覆的基板,其中涂 层系由如申请专利范围第14项之涂料组成物所制 得,且涂层的消光效率在60时为20个光泽单元。 17.如申请专利范围第14项之经涂覆的基板,其中涂 层系由一种胺改质的聚醚丙烯酸酯所制得,此涂层 系由一种含有12重量%或更少消光剂组成份的组成 物所制得,且此涂层的消光效率在60时为60个光泽 单元或更少。 图式简单说明: 第1图说明了本发明在辐射(紫外线,亦即UV)硬化组 成物中的消光效率,以及粒子大小对消光效率的影 响,同时亦将本发明与其它种消光剂组成物做一比 较。 第2图说明了本发明在辐射硬化组成物中的消光效 率,以及发明中之蜡含量对消光效率的影响,同时 亦将本发明与其它种消光剂做一比较。 第3图说明了含有本发明和比较用消光剂之辐射硬 化组成物在各种涂层厚度下的黏度。 第4图说明了含有本发明和比较用消光剂之商用辐 射(UV)硬化组成物在不同时间周期下的黏度。这些 经过长时间后所测得之黏度値系反应出本文中所 谓的黏度稳定性。 第5图说明了本发明之消光剂和比较用消光剂中之 孔隙体积如何影响辐射硬化组成物的消光效率。 第6图说明了本发明之消光剂和比较用消光剂在 EbecrylTM 270此种特定辐射硬化组成物中的消光效率 。 第7图说明了本发明之消光剂和比较用消光剂在 Laromer P083F此种特定辐射硬化组成物中的消光效率 。 |
