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发明名称 PLASMA PROCESSING DEVICE
摘要
申请公布号 JPH11260594(A) 申请公布日期 1999.09.24
申请号 JP19980060810 申请日期 1998.03.12
申请人 HITACHI LTD 发明人 WATANABE SEIICHI;KADOYA MASAHIRO;TAMURA HITOSHI
分类号 H01L21/302;C23C16/50;C23C16/511;C23F4/00;H01L21/205;H01L21/3065;H01L21/31;H05H1/46;(IPC1-7):H05H1/46;H01L21/306 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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