| 发明名称 |
SEMICONDUCTOR SILICON WAFER, MANUFACTURE THEREOF AND HEAT TREATMENT EQUIPMENT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH11260677(A) |
申请公布日期 |
1999.09.24 |
| 申请号 |
JP19980100052 |
申请日期 |
1998.03.27 |
| 申请人 |
SUMITOMO METAL IND LTD |
发明人 |
ADACHI HISASHI;SANO MASAKAZU;SADAMITSU SHINSUKE;KUBOTA TSUYOSHI |
| 分类号 |
H01L21/31;C30B33/02;H01L21/02;H01L21/316;H01L21/322;H01L21/324;(IPC1-7):H01L21/02 |
主分类号 |
H01L21/31 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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