| 主权项 |
1.一种微影投影装置,其包括:-一辐射系统,其用于提供一辐射投影光束;-可程式化的图案化构件,其用于根据一所需图案将投影光束图案化;-一基板台,其用于固定一基板;-一投影系统,其用于将该图案化的光束投影在该基板的一目标部分上,其特征为该投影系统包括:-用于分开该图案化光束以形成复数个图案化光束片段之构件;-用于将一第一图案化光束片段投影在一基板的一第一目标部分上的第一构件;以及-用于将一第二图案化光束片段投影在一基板的一第二目标部分上的第二构件。2.如申请专利范围第1项之装置,其中该投影系统进一步包含,用于分开一或多个的该图案化光束片段以产生进一步的图案化光束片段之构件。3.如申请专利范围第1或2项之装置,其中藉由该图案化光束片段投影的影像实质上系相同的。4.如申请专利范围第1或2项之装置,其中该投影系统进一步包含,用于调整一或多个该图案化光束片段的亮度之构件。5.如申请专利范围第4项之装置,其中调整该图案化光束片段之该构件包括一具有校正的光衰减之滤波器。6.如申请专利范围第4项之装置,其中调整该图案化光束片段之该构件包括一辐射极化元件。7.如申请专利范围第1或2项之装置,其中该投影系统进一步包含,用于提供藉由该可程式化的图案化构件提供图案的一精简影像之构件。8.如申请专利范围第1或2项之装置,其中该投影系统进一步包含,用于分别调整藉由该图案化光束片段所提供的各影像之大小之构件。9.如申请专利范围第1或2项之装置,其中该投影系统进一步包含,用于分别调整各图案化光束片段影像的焦距及/或横向位置之构件。10.如申请专利范围第1或2项之装置,其中将该图案化光束分开之该构件系折射或部分反射构件。11.一种装置之制造方法,其包括下列步骤:-提供至少部分由一层辐射敏感材料所覆盖之一基板;-利用一辐射系统提供一辐射投影光束;-利用可程式化的图案化构件赋予投影光束一图案式之断面;-将图案化之辐射光束投影至辐射敏感材料层之一目标部分,其特征为将该图案化辐射束分成复数个图案化光束片段后将其投影在该基板上;并且将该图案化光束片段分别投影至一基板的分开目标部分。图式简单说明:图1显示依据本发明的一具体实施例之一微影投影装置;图2系示意性显示依照本发明之一具体实施例之装置;图3显示依据本发明另一具体实施用于分开一图案化光束之构件;以及图4显示本发明的另一具体实施例。 |
