发明名称 用于显示器之抗反射膜
摘要 本发明提供一种抗反射膜及其制造方法,该抗反射膜系包括一基材,其具有一第一表面及一第二表面,且系为圆偏振器、线性偏振器或遮光栅格塑胶膜;一无机层,沉积于该基材之第一表面上;及一光学活性聚合物层,其系藉着一可固化组合物于该无机层上进行原位固化而形成,此聚合物层在400奈米至700奈米波长范围具有不高于约1.53之折射率、及约20奈米至约200奈米之厚度。
申请公布号 TWI282443 申请公布日期 2007.06.11
申请号 TW092128290 申请日期 2003.10.13
申请人 3M新设资产公司 发明人 艾沙德 纳达 哈瓦;理查 吉拉德 炮拉克;乔治欧 班纳都 春潘尼;普拉迪亚 维维克 纳佳卡;蒂芬妮 艾琳 鲁德
分类号 G02B5/30(2006.01) 主分类号 G02B5/30(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种抗反射膜,其包括: 一基材,其具有一第一表面及一第二表面,且系为 圆偏振器、线性偏振器或遮光栅格塑胶膜; 一无机层,系沉积于该基材之第一表面上;及 一光学活性聚合物层,其系藉着一可固化组合物于 该无机层上进行原位固化而形成,此聚合物层在400 奈米至700奈米波长范围具有不高于约1.53之折射率 、及约20奈米至约200奈米之厚度。 2.如申请专利范围第1项之抗反射膜,其中该无机层 系包含金属氧化物、氮化物、镍、铬、二氧化矽 、或其任何组合。 3.如申请专利范围第2项之抗反射膜,其中该金属氧 化物系为氧化铟、二氧化钛、氧化镍、氧化铬、 氧化镉、氧化镓铟、五氧化铌、氧化铟锡、二氧 化锡、及其任何组合。 4.如申请专利范围第3项之抗反射膜,其中该金属氧 化物层系具有约10至约30奈米之厚度,且该聚合物 层系具有约80奈米至约150奈米之厚度。 5.如申请专利范围第2项之抗反射膜,其中该氮化物 系为氮化矽、氮化钛、或其组合。 6.如申请专利范围第2项之抗反射膜,其中该无机层 系包含一第一金属氧化物层、一二氧化矽层、及 一第二金属氧化物层,其中该二氧化矽层系配置于 该第一金属氧化物层与该第二金属氧化物层之间, 且其中该第一金属氧化物层系沉积于该基材之第 一表面上。 7.如申请专利范围第6项之抗反射膜,其中该第一金 属氧化物层系具有约20奈米至约35奈米之厚度,该 二氧化矽层系具有约10奈米至约25奈米之厚度,该 第二金属氧化物层系具有约50奈米至约100奈米之 厚度,且该聚合物层系具有约70奈米至约120奈米之 厚度。 8.如申请专利范围第2项之抗反射膜,其中该无机层 系包含一金属氧化物层及一二氧化矽层,该金属氧 化物层系沉积于该基材之第一表面上,而该二氧化 矽层系沉积于该金属氧化物层上。 9.如申请专利范围第8项之抗反射膜,其中该金属氧 化物层系具有约10奈米至约30奈米之厚度,该二氧 化矽层系具有约10奈米至约120奈米之厚度,而该聚 合物层系具有约50奈米至约130奈米之厚度。 10.如申请专利范围第1项之抗反射膜,其中该聚合 物层系包含自氟代烯、含有聚矽酮之丙烯酸酯、 甲基丙烯酸酯、多官能基丙烯酸酯单体、或其任 何组合所衍生之重现单元。 11.如申请专利范围第1项之抗反射膜,其中该聚合 物层系包含自氟代烯衍生之重现单元及自含有聚 矽酮之丙烯酸酯衍生之重现单元,且其中该聚合物 层系具有富含有聚矽酮之丙烯酸酯的外部及富含 氟代烯之内部。 12.如申请专利范围第1项之抗反射膜,其中该聚合 物层系包含自氟代烯衍生之重现单元及自甲基丙 烯酸酯衍生之重现单元,且其中该聚合物层系具有 富含甲基丙烯酸酯的外部及富含氟代烯之内部。 13.如申请专利范围第1项之抗反射膜,其中该聚合 物层尚包含一抗静电剂。 14.如申请专利范围第1项之抗反射膜,其中尚包括 一配置于该聚合物层上之抗静电涂层。 15.如申请专利范围第1项之抗反射膜,其中尚包括 一配置于该基材第一表面与该无机层之间的硬涂 层。 16.如申请专利范围第15项之抗反射膜,其中该硬涂 层系具有约1微米至约15微米之厚度。 17.如申请专利范围第15项之抗反射膜,其中该硬涂 层系包含分散于经自由基固化之黏合剂中的胶态 无机氧化物粒子。 18.如申请专利范围第1项之抗反射膜,其尚包括一 配置相邻于该基材之承载层。 19.如申请专利范围第1项之抗反射膜,其尚包括一 配置于该基材第一表面与该无机层之间的遮光栅 格胶塑层。 20.如申请专利范围第1项之抗反射膜,其中该基材 系为圆偏振器,此圆偏振器系包括一线性偏振器及 一四分之一波长延迟器,该无机层系与该线性偏振 器相邻。 21.如申请专利范围第1项之抗反射膜,其尚包括一 黏着层。 22.如申请专利范围第21项之抗反射膜,其中该黏着 层系经微型结构化。 23.如申请专利范围第1项之抗反射膜,其尚包括一 红外线阻隔组件。 24.如申请专利范围第1项之抗反射膜,其尚包括一 配置相邻于该基材之保护层。 25.一种光学系统,其系包括: 一显示装置;及 一配置于该显示装置上之抗反射膜,其中该抗反射 膜系包括:一基材,其具有一第一表面及一第二表 面,且系为圆偏振器、线性偏振器或遮光栅格塑胶 膜;一无机层,沉积于该基材之第一表面上;及一光 学活性聚合物层,其系藉着一可固化组合物于该无 机层上进行原位固化而形成,此聚合物层在400奈米 至700奈米波长范围具有不高于约1.53之折射率、及 约20奈米至约200奈米之厚度。 26.如申请专利范围第25项之光学系统,其中该显示 装置系为个人数位助理("PDAs")、自动柜员机、蜂 窝式行动电话(cellular phones)、感触式萤幕、平板 显示器、腕表、汽车导航系统、仪表板、全球定 位系统、深度探测器、计算机、掌上型电子游戏 机、电子书、CD或DVD播放机、投影电视萤幕、电 脑萤幕、笔记型电脑显示器、仪器表计、图型输 入式个人电脑(tablet personal computers)或LCD电视。 27.如申请专利范围第25项之光学系统,其中该抗反 射膜尚包括一配置于该基材第一表面与该无机层 之间的遮光栅格塑胶层。 28.如申请专利范围第25项之光学系统,其中该基材 系为圆偏振器,此圆偏振器系包括一线性偏振器及 一四分之一波长延迟器,该无机层系与该线性偏振 器相邻。 29.如申请专利范围第25项之光学系统,其中该抗反 射膜尚包括一配置相邻于该基材之保护层。 30.如申请专利范围第25项之光学系统,其中该抗反 射膜尚包括一黏着层。 31.如申请专利范围第25项之光学系统,其中该抗反 射膜尚包括一配置于该基材第一表面与该无机层 之间的硬涂层。 32.一种制造抗反射膜之方法,其包括: 提供一具有第一表面与第二表面之基材,其中该基 材系为圆偏振器、线性偏振器、或遮光栅格胶塑 膜; 于该基材之第一表面上沉积一无机层; 于该无机层上沉积一可固化组合物层;及 固化所沉积之可固化组合物,以形成一光学活性聚 合物层,此层具有约20奈米至约200奈米之厚度,及在 400奈米至700奈米波长范围内不大于约1.53之折射率 。 33.如申请专利范围第32项之方法,其中该无机层系 自金属氧化物、氮化物、镍、铬、二氧化矽、或 其任何组合形成。 34.如申请专利范围第32项之方法,其中该金属氧化 物系为氧化铟、二氧化钛、氧化镍、氧化铬、氧 化镉、氧化镓铟、五氧化铌、氧化铟锡、二氧化 锡、及其任何组合。 35.如申请专利范围第32项之方法,其中该金属氧化 物层系具有约10至约30奈米之厚度,且该聚合物层 系具有约80奈米至约150奈米之厚度。 36.如申请专利范围第32项之方法,其中该氮化物系 为氮化矽、氮化钛、或其组合。 37.如申请专利范围第32项之方法,其中该无机层沉 积步骤系包括 将第一金属氧化物层沉积于该基材之第一表面上; 将二氧化矽层沉积于该第一金属氧化物层上;及 将第二金属氧化物层沉积于该二氧化矽层上。 38.如申请专利范围第37项之方法,其中该第一金属 氧化物层系具有约20奈米至约35奈米之厚度,该二 氧化矽层系具有约10奈米至约25奈米之厚度,该第 二金属氧化物层系具有约50奈米至约100奈米之厚 度,且该聚合物层系具有约70奈米至约120奈米之厚 度。 39.如申请专利范围第32项之方法,其中该无机层沉 积步骤包括 将一金属氧化物层沉积于该基材之第一表面上;及 将二氧化矽层沉积于该金属氧化物层上。 40.如申请专利范围第39项之方法,其中该金属氧化 物层系具有约10奈米至约30奈米之厚度,该二氧化 矽层系具有约10奈米至约120奈米之厚度,而该聚合 物层系具有约50奈米至约130奈米之厚度。 41.如申请专利范围第32项之方法,其中该可固化组 合物系包含一氟代烯聚合物、一含有聚矽酮之丙 烯酸酯聚合物、一甲基丙烯酸酯聚合物、一多官 能基丙烯酸酯单体、或其任何组合。 42.如申请专利范围第32项之方法,其中可固化组合 物系包含一氟代烯聚合物及一含有聚矽酮之丙烯 酸酯聚合物,该固化系使得聚合物层内之材料分凝 ,产生富含有聚矽酮之丙烯酸酯的外部及富含氟代 烯之内部。 43.如申请专利范围第32项之方法,其中可固化组合 物系包含一氟代烯聚合物及一甲基丙烯酸酯聚合 物,该固化系使得聚合物层内之材料分凝,产生富 含甲基丙烯酸酯的外部及富含氟代烯之内部。 44.如申请专利范围第32项之方法,其尚包括 于该基材之第一表面上沉积硬涂层之后,在该层上 沉积一无机层。 45.如申请专利范围第32项之方法,其尚包括 配置一承载层相邻于该基材。 46.如申请专利范围第32项之方法,其尚包括 于该基材之第一表面上配置一遮光栅格塑胶层,之 后于该层上沉积该无机层。 47.如申请专利范围第32项之方法,其尚包括 沉积一黏着层。 48.如申请专利范围第32项之方法,其尚包括 配置一保护层相邻于该基材。 49.一种制造光学系统之方法,其包括: 配置一显示装置;及 于该显示装置之至少一部分上配置抗反射膜,该抗 反射膜系包括一具有第一表面及第二表面之基材, 其中该基材系为圆偏振器、线性偏振器、或遮光 栅格胶塑膜;一无机层,系沉积于该基材之第一表 面上;及一光学活性聚合物层,其系藉着一可固化 组合物于该无机层上进行原位固化而形成,且在400 奈米至700奈米波长范围具有不高于约1.53之折射率 、及约20奈米至约200奈米之厚度。 50.如申请专利范围第49项之方法,其中该显示装置 系为个人数位助理("PDAs")、自动柜员机、蜂窝式 行动电话(cellular phones)、感触式萤幕、平板显示 器、腕表、汽车导航系统、仪表板、全球定位系 统、深度探测器、计算机、掌上型电子游戏机、 电子书、CD或DVD播放机、投影电视萤幕、电脑萤 幕、笔记型电脑显示器、仪器表计、图型输入式 个人电脑(tablet personal computers)或LCD电视。 51.如申请专利范围第49项之方法,其中该抗反射膜 尚包括一配置于该基材第一表面与该无机层之间 的遮光栅格塑胶层。 52.如申请专利范围第49项之方法,其中该抗反射膜 尚包括一配置相邻于该基材之承载层。 53.如申请专利范围第49项之方法,其中该抗反射膜 尚包括一配置相邻于该基材之保护层。 54.如申请专利范围第49项之方法,其中该抗反射膜 尚包括一配置于该基材之第一表面与该无机层之 间的硬涂层。 图式简单说明: 图1系为本发明具体实例之抗反射膜的侧面示意图 。 图2系为本发明具体实例之另一抗反射膜的侧面示 意图。
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