磁性多层薄膜之制造装置及制造方法,薄膜制造之评价方法,以及薄膜制造之控制方法

摘要

此磁性多层薄膜之制造装置之构造为，具有：在基板制造含有多数磁性薄膜之多层薄膜之多数的处理腔；和与大气隔开之状态下，搬运基板之搬运机构；和金属膜的处理腔，处理腔系具备有：处理包含在多层薄膜之金属膜的处理装置；和光学地评价金属膜之表面状态之光学式测量装置；和依据由此光学式测量光至所输出的测量讯号，以控制处理装置的动作之控制装置。在薄膜形成装置内，可在基板形成多层薄膜，可不将基板暴露于大气，于金属膜的处理工程中，管理该金属膜的表面状态，可没有过与不足地进行该金属膜的处理。