| 发明名称 |
Apparatus and method for washing substrate |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG67439(A1) |
申请公布日期 |
1999.09.21 |
| 申请号 |
SG19970004026 |
申请日期 |
1997.11.12 |
| 申请人 |
TOKYO ELECTRON LIMITED |
发明人 |
TANAKA HIDEYA;MIYAMOTO KENICHI;KUBOTA MINORU;SWANSON WALTER |
| 分类号 |
B08B1/04;H01L21/00;(IPC1-7):H01L21/00 |
主分类号 |
B08B1/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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