| 发明名称 |
Method of reducing the formation of watermarks on semiconductor wafers |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0887846(A3) |
申请公布日期 |
1999.09.15 |
| 申请号 |
EP19980109961 |
申请日期 |
1998.06.02 |
| 申请人 |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
RAMACHANDRAN, RAVIKUMAR |
| 分类号 |
H01L21/308;H01L21/302;H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
H01L21/308 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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