| 发明名称 | 共聚物树脂,其制备方法及使用其制成的光致抗蚀剂 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于超短波光源(像KrF或ArF)的共聚物树脂及其制备方法,和包含此树脂的光致抗蚀剂。本发明的共聚物树脂可以传统的自由基聚合反应,容易地将降冰片基(甲基)丙烯酸酯单元导入用于光致抗蚀剂聚合物的结构中制备而得。此树脂在193nm波长时具有高透明性,且因为有降冰片基中的亲水官能基,因此可产生提高的蚀刻阻抗性,及提高的粘着强度,在实际制图试验时显示出0.15μm的优良分辨度。 | ||
| 申请公布号 | CN1228410A | 申请公布日期 | 1999.09.15 |
| 申请号 | CN98125998.7 | 申请日期 | 1998.12.31 |
| 申请人 | 现代电子产业株式会社 | 发明人 | 郑旼镐;郑载昌;白基镐;卜喆圭 |
| 分类号 | C07C69/653;C08F220/26;G03F7/00 | 主分类号 | C07C69/653 |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 丁业平 |
| 主权项 | 1．一种光致抗蚀剂单体，包含式Ⅱ所示的(甲基)丙烯酸5-羟基-降冰片烷-6-酯衍生物：[式Ⅱ]<img file="A9812599800021.GIF" wi="215" he="351" />其中R是2-叔丁氧基羰基、2-羧基、2-四氢吡喃氧基羰基、2-四氢呋喃氧基羰基或1-乙氧基乙基氧基羰基；R<sub>1</sub>是氢或甲基。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||