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发明名称
发光二极体以及其制造方法
摘要
本发明揭露了一种发光二极体,发光二极体包括与活性层电性并联之电流泄漏路径以保护发光二极体免于静电的影响。发光二极体包括基板、在基板上的n型氮化物半导体层、在n型氮化物半导体层上的活性层、在活性层上的p型半导体层,以及藉由蚀刻而将n型半导体层暴露至p型半导体层之一部份而形成的n电极。
申请公布号
TW200935626
申请公布日期
2009.08.16
申请号
TW097129539
申请日期
2008.08.04
申请人
首尔OPTO仪器股份有限公司
发明人
尹余镇
分类号
H01L33/00(2006.01)
主分类号
H01L33/00(2006.01)
代理机构
代理人
詹铭文;萧锡清
主权项
地址
南韩
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