发明名称 |
位置测量系统、曝光装置、位置测量方法、曝光方法及元件制造方法、以及工具及测量方法 |
摘要 |
晶圆载台WST上面配置有第1光栅(39Y#sB!1#eB!,39Y#sB!2#eB!),于第1光栅之+Y侧设置形成有辅助光栅(39Y#sB!3#eB!,39Y#sB!4#eB!)之校准区域。使用此校准区域进行既定校准处理、例如进行使用编码器之读头(64y#sB!1#eB!,64y#sB!2#eB!)等之晶圆载台之位置测量相关联之校准处理,即能在该校准处理后,使用编码器以良好精度进行晶圆载台于既定方向之位置控制。 |
申请公布号 |
TW200935026 |
申请公布日期 |
2009.08.16 |
申请号 |
TW097128213 |
申请日期 |
2008.07.24 |
申请人 |
尼康股份有限公司 |
发明人 |
金谷有步 |
分类号 |
G01B11/00(2006.01);G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G01B11/00(2006.01) |
代理机构 |
|
代理人 |
桂齐恒;阎启泰 |
主权项 |
|
地址 |
日本 |