发明名称 位置测量系统、曝光装置、位置测量方法、曝光方法及元件制造方法、以及工具及测量方法
摘要 晶圆载台WST上面配置有第1光栅(39Y#sB!1#eB!,39Y#sB!2#eB!),于第1光栅之+Y侧设置形成有辅助光栅(39Y#sB!3#eB!,39Y#sB!4#eB!)之校准区域。使用此校准区域进行既定校准处理、例如进行使用编码器之读头(64y#sB!1#eB!,64y#sB!2#eB!)等之晶圆载台之位置测量相关联之校准处理,即能在该校准处理后,使用编码器以良好精度进行晶圆载台于既定方向之位置控制。
申请公布号 TW200935026 申请公布日期 2009.08.16
申请号 TW097128213 申请日期 2008.07.24
申请人 尼康股份有限公司 发明人 金谷有步
分类号 G01B11/00(2006.01);G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G01B11/00(2006.01)
代理机构 代理人 桂齐恒;阎启泰
主权项
地址 日本