| 发明名称 |
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND BACKED MATERIAL PATTERN OBTAINED BY USING SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH11246638(A) |
申请公布日期 |
1999.09.14 |
| 申请号 |
JP19980063904 |
申请日期 |
1998.03.02 |
| 申请人 |
TAIYO INK MFG LTD |
发明人 |
KAKINUMA MASAHISA;TOMOBE MASARU;TAKAGI KOICHI |
| 分类号 |
H01J9/20;C08F2/48;C08F290/12;C08F299/00;C09D4/00;C09D5/00;C09D5/22;C09D5/24;G03F7/00;G03F7/038;H01B1/22;H01B3/00;H01B3/08;H01J9/227;(IPC1-7):C08F290/12 |
主分类号 |
H01J9/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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